金屬氧化物製程技術 應用材料推新設備

金屬氧化物製程技術　應用材料推新設備
2013年10月17日11:18   
【吳秀樺／台北報導】全新物理氣相沉積（PVD）和電漿增強化學氣相沉積 （PECVD）系統支援獨特的最佳化沉積技術，用於金屬氧化物薄膜電晶體超高解析度顯示器的高量產，加速技術藍圖精進，推出大尺寸電視機和行動裝置專用的最高解析度、低耗電螢幕。

應用材料指出，全新物理氣相沉積（PVD）和電漿增強化學氣相沉積 （PECVD）系統推出有助大尺寸和超高解析度（UHD）液晶顯示和有機發光二極體顯示器生產的全新技術系統，符合今日消費者對螢幕性能、清晰度、色彩和明亮度的更高規格需求。Applied AKT-PiVot 55K DT PVD、Applied AKT-PiVot 25K DT PVD和Applied AKT 55KS PECVD系統大幅提升應用材料公司在金屬氧化物薄膜和技術的領導地位，可生產高解析度顯示器所需的更小、更快的薄膜電晶體。

這2種PVD和PECVD系統具備精密材料工程和產能創新能力，為未來量產以金屬氧化物為基礎的顯示器，提供最佳化、具成本效益的解決方案，未來4K超高解析度電視機預計也將採用金屬氧化物薄膜電晶體技術。應用材料PVD和CVD系統均具備均勻度和微塵粒子控制技術，有助客戶提供高良率量產的全新顯示器。

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資訊來源: 蘋果日報


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